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コニカミノルタグループ（以下，コニカミノルタ）では，2008年度の知的財産活動への取り組みについてまとめた「知的財産報告書 2009」を，コニカミノルタのWEBサイト（http://konicaminolta.jp/pr/ip）上で公開した。また，8月上旬発行予定の英文アニュアルレポートなどでも知的財産に対する考え方を公開していく。
内容的には，経済産業省の指針に従い，知的財産報告書の開示10項目に沿って作成している。08年度の知的財産活動の概略は，中核事業の情報機器分野と戦略事業のオプト分野を合わせた特許公開件数が過去最高となり，全体の3分の2を占めるに至った。両分野の特許保有件数も増加しており，全体のおおよそ70％を占めている。今後の成長につながる共通基盤技術・先端技術についても積極的に特許権の蓄積を図っており，特許保有件数は日本で15％，米国で16％を占めている。この中には有機ELの長寿命，高発光効率を可能とするりん光材料特許も含まれており，その保有件数は国内第1位（独自集計）となっている。
知的財産活動の中核組織である知的財産センターでは，一層の知的財産創出を図るため，関東・中部・関西の各地区にブランチを配置し，研究開発現場に密着した活動を推進している。また，海外にも人員を配置し，グローバルな視点で知的活動を推進している。中国では，現地知的財産業務の強化とともに模倣品へも迅速な対応を行っている。 |
